Материалы для микроэлектроники

Негативный фоторезист, специально разработанный для обратной фотолитографии с инверсией трапециидальной структуры. Обладает высокой чувствительностью, широким технологическим коридором, высоким разрешением и подходит для использования в широкоспектральных G/I установках экспонирования. Отлично подходит для процесса обратной фотолитографии при изготовлении светодиодов и микросхем.